SERIO与高密度等离子体蚀刻单元ICP等离子体源。
设计为一个内部开发的过程,它提供高垂直度和顺利蚀刻表面。
SERIO提供了优化系统配置高纵横蚀刻过程中需要电子、微机电系统和纳米压印字段。